低エネルギーイオン散乱分光分析（ISS）
概要
試料表面に活性を与えるためのコーティング厚さは数原子層レベルの場合があります。低エネルギーイオン散乱分光分析（ISS）はヘリウムイオンを照射し散乱イオンのエネルギーを測定することにより、表面1～2原子層の大変浅い領域の元素を分析する方法です。XPS、ESCAより検出深さの浅い分析法です。
試験方法と測定例
原理
低エネルギーのHeイオンを試料表面に照射し弾性散乱イオンの運動エネルギーを測定することにより、試料最表面の元素を分析します。
散乱は表面1～2原子層で起こるため、表面感度が極めて高い分析法です。
特微
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XPS、ESCA装置に装備しているイオン銃よりヘリウムイオンを試料表面に照射させ、試料から散乱されるイオンの運動エネルギーを計測します。
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ヘリウムイオンのエネルギーが低いため、散乱は表面1～2原子層で発生し、XPS、ESCAより浅い領域の分析が可能です。
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照射イオンのエネルギーおよび質量、散乱イオンのエネルギーから散乱した表面原子の質量を計算することにより、元素を解析します。
測定範囲
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分析広さ：1mmΦ程度
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検出深さ：表面1～2原子層（0.1nm程度）
測定例
フィルム最表面のフッ素をISS法でのみ検出しています。
ISS法の検出領域がESCA/XPSより浅いことがわかります。
用途
薄膜やコート膜の被覆状態評価
サンプルサイズ
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大きなサンプルは、試料の裁断が必要です（1cm角程度）。
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目的に応じて、適切な前処理を行います。
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