低エネルギーイオン散乱分光分析（ISS、LEIS）

低エネルギーのHeイオンを試料表面に照射し弾性散乱イオンの運動エネルギーを測定することにより、試料最表面の元素を分析します。

散乱は表面1～2原子層で起こるため、表面感度が極めて高い分析法です。

測定例1：ポリイミドフィルムについて、ISSとXPSにより分析しました。

　　　　・フィルム最表面のフッ素をISS（LEIS）法でのみ検出しています。

　　　　　ISS（LEIS）法の検出領域がESCA/XPSより浅いことがわかります。

測定例2：極表面にPtを被覆したCuについて、ISSとXPSにより分析しました。

　　　　・サンプル①について、XPSではPtが検出されませんでしたが、ISSでは検出されました。
　　　　　ISSの検出深さはXPSよりも浅く、1～2原子層レベルの表面の分析に有効です。

　　　　・被覆材と基材由来原子のピーク面積比により、被覆状態を評価することができますので、サンプル②はサンプル①よりもPtの被覆量が多いと考えられます。